1.HMDS是如何涂在硅片表面的？是像勻膠那樣甩涂嗎？另外，是在什么溫度下操作，需不需要在加熱硅片的同時(shí)涂覆，還是等去把硅片清洗完畢烘干冷卻后甩涂？
答：HMDS是氣相涂布在硅片表面，也就是硅片在HMDS的蒸汽中放置一會(huì)兒，溫度約100-180度即可
2.在涂光刻膠之前需要把涂有HMDS的硅片烘干冷卻后在涂光刻膠嗎？還是把涂有HMDS的硅片不烘干直接涂膠？
答：HMDS處理后需要冷卻后涂膠，但等待時(shí)間不能太長(zhǎng)，過(guò)長(zhǎng)處理效果會(huì)變差，建議4小時(shí)內(nèi)完成涂膠
3.在HMDS上面在滴光刻膠甩涂時(shí)，光刻膠內(nèi)的溶劑會(huì)不會(huì)又把HMDS層給破壞呢？
答：HMDS上面涂膠不影響HMDS的處理效果
4.在顯影過(guò)程中硅片表面的HMDS層如何去除掉才能使被刻蝕的硅表面露出？
答：HMDS本身是表面改性，HMDS本身不會(huì)涂在園片表面，因此不用擔(dān)心去除HMDS層
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